仪器名称：全自动化学发光图像分析系统

型号：Tanon-5200

制造国家：中国

生产厂家：上海天能科技有限公司

购置日期：2017年

放置地点：二教 316

主要规格及技术指标：冷却方式: 半导体制冷，冷却温度: 低于环境温度65℃（绝对温度-40℃，动态实时显示CCD制冷温度）；感光效率: CCD芯片光电转换效率：High QE: >75%；有效像数: 2750×2200；像数密度 : 16 bit （0 - 65535色）；像数尺寸 : 4.54um×4.54um；像素合并: 1×1，2×2，3X3，4×4，5 X 5；分辨率: 605万像素；动态范围: ﹥4.6个数量级；电动镜头: F/0.80, 高清晰大口径高通透电动镜头，可通过计算机对焦距的电动调整；变 焦: 标配抽屉式双位载物对焦平台，可兼容拍摄样品厚度0.01mm—10cm；照明模式: 透射白光，反射白光；激发光源: 双侧反射：：反射白光灯（冷光）；滤光片位置: 无；滤光片: 无；拍摄面积: 15×15cm。

主要功能及特色：是专业的化学发光成像分析系统，可对ECL发光等直接成像，获得实验结果。以往我们主要使用暗室曝光来进行ECL检测，但是建造暗室浪费空间，在暗室中曝光步骤繁琐，冲洗X胶片时会接触到有毒的化学试剂。现在使用发光成像系统进行ECl成像已经逐渐取代传统的暗室曝光检测。

主要附件及配置：摄像头: 美国原装 FLI品牌高分辨率低照度数码制冷相机

感光芯片: CCD芯片：Sony ICX694。